Výroba čipů pod 1 nm: Podle roadmapy IMEC až po roce 2034

Výroba čipů s technologií pod 1 nm se neobjeví dříve než v roce 2034, vyplývá z nejnovější technologické roadmapy výzkumného centra IMEC. Jeho projekce vývoje logických čipů od 20. do 40. let potvrzují, že Mooreův zákon stále žije – tempo pokroku se ovšem výrazně zpomalilo.

V nejbližších letech se vývoj soustředí na tranzistory typu nanosheet Gate-All-Around, přičemž klíčovým milníkem bude 2nm technologie označovaná jako N2. V dohledu jsou dále uzly na úrovni angstromů, například A14 a A10. Tyto milníky však neuvádějí, kdy se hotové produkty dostanou na trh – jde o termíny, kdy by měly být připraveny samotné výrobní postupy.

Přechod na subnanometrovou výrobu je naplánován zhruba na rok 2034. Umožní ho tranzistory CFET, které vertikálně skládají struktury s p- a n-kanálem. Prvním zástupcem této rodiny bude uzel A7 (0,7 nm), po němž by měl kolem roku 2036 následovat A5 a do roku 2040 pak A3.

Ještě vzdálenější budoucnost, tedy 40. léta, by mohla přinést tranzistory 2D FET využívající nové materiály. Podle odhadů IMEC by se mohly stát základem uzlu A2 (0,2 nm) okolo roku 2043 a technologie pod 0,2 nm by se mohly objevit do roku 2046. Takto dlouhodobé výhledy jsou ovšem nutně spekulativní a mohou se ještě měnit.

Samotné nové tranzistorové struktury však k udržení pokroku nestačí. IMEC zdůrazňuje rostoucí význam pokročilého 2.5D a 3D pouzdření, čipletů, moderních propojovacích materiálů, integrovaných regulátorů napětí a efektivnější distribuce energie. Tyto stavební kameny by společně měly podpořit další vlnu akcelerátorů AI, vysoce výkonných výpočetních systémů a procesorů budoucnosti.