ASML eröffnet erstes US-Schulungszentrum in Phoenix – 1.000 Ingenieure pro Jahr
ASML eröffnet in Phoenix sein erstes US-Schulungszentrum. Bis zu 1.000 Ingenieure trainieren dort an DUV- und EUV-Systemen – ein Schub für die US-Chipindustrie.
ASML eröffnet in Phoenix sein erstes US-Schulungszentrum. Bis zu 1.000 Ingenieure trainieren dort an DUV- und EUV-Systemen – ein Schub für die US-Chipindustrie.
© D. Novikov
Der niederländische Konzern ASML, ein zentraler Ausrüster der globalen Chipindustrie, hat in Phoenix, Arizona, sein erstes US-Schulungszentrum eröffnet. Damit setzt das Unternehmen einen greifbaren Schritt, um in einem Land mit akutem Fachkräftemangel eine eigene Ingenieursbasis für die rasant wachsende Halbleiterbranche aufzubauen.
Wie Reuters berichtet, kann die Einrichtung rund 1.000 Ingenieurinnen und Ingenieure pro Jahr ausbilden. Sie umfasst 14 Seminarräume und einen Reinraum, in dem Fachkräfte mit ASMLs fortgeschrittenen DUV- und EUV-Systemen arbeiten – genau jenen Maschinen, die für die Fertigung moderner Mikrochips unverzichtbar sind. Bislang mussten Beschäftigte für diese Schulungen nach Europa oder Asien reisen.
ASML-Chef Christophe Fouquet sagte, das Timing sei ideal, und verwies auf den beschleunigten Ausbau in Arizona, wo Werke von TSMC und Intel im Bau sind. Ähnlichen Schwung erwarte man in Texas und Idaho.
Die Bedeutung des Zentrums ist beträchtlich. US-Hersteller ringen um ausreichend Ingenieurinnen und Ingenieure und holen deshalb Spezialisten aus Taiwan und anderen Ländern. Eine dedizierte ASML-Ausbildungsbasis dürfte diese Lücke verkleinern und zu einem Pfeiler einer widerstandsfähigeren, selbstständigeren US-Lieferkette für Chips werden. In dieser Lage gewinnt praxisnahe Qualifizierung an Gewicht – sie wirkt wie ein Hebel, der Projekte schneller von der Planung in die Fertigung bringt.
Zwar wird der Standort die neuesten High-NA-EUV-Systeme vorerst nicht abdecken, diese verbleiben weiterhin in den Niederlanden. Doch schon die Eröffnung stärkt die Position der USA in einem globalen Wettstreit um technologische Führung, der an Intensität zunimmt.