Китай разрабатывает собственное оборудование для производства чипов, чтобы сократить зависимость от Запада.
В КНР запустят собственное передовое производство чипов
Фото: © D. Novikov
Китай активно работает над созданием собственного оборудования для экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV), чтобы преодолеть технологические ограничения, наложенные торговыми санкциями США. Ожидается, что испытательное производство новых EUV машин начнется в третьем квартале 2025 года. Это оборудование, разрабатываемое на базе нового метода с использованием плазмы при разряде лазера, является более простым и эффективным по сравнению с существующими технологиями компании ASML.
Сообщается, что новая система, тестируемая на объекте Huawei в Дунгуане, использует процесс, при котором олово между электродами испаряется и превращается в плазму через высоковольтный разряд, создавая необходимую длину волны EUV излучения 13,5 нм. Этот подход обещает снизить затраты и потребление энергии по сравнению с более сложными системами, что может значительно снизить стоимость производства полупроводников.
Создание собственного EUV оборудования позволит таким компаниям, как SMIC и Huawei, не только сократить зависимость от западных технологий, но и улучшить конкурентоспособность на мировом рынке микрочипов. Особенно это важно для Huawei, которая ограничена в разработке своих чипсетов Kirin процессом 7 нм и стремится сократить технологический отрыв от таких гигантов, как Qualcomm и Apple.
Ранее издание Пепелац Ньюс сообщало, что LG показала кондиционер с искусственным интеллектом.